是否进口:否 | 产地:邢台产地 | 加工定制:是 |
品牌:慧采 | 型号:2018款 | 订货号:HC0001 |
货号:01货号 | 规格:2018款 | 适用范围:范围广 |
是否跨境货源:否 |
型号:JX089746 | 型号:JX089751CX-9800(L)全谱光谱仪 |
仪器广泛应用于钢铁、有色金属、冶金、机械、化工设备、质检系统等多种行业中材料分析,以及金属的冶炼工业的炉前分析及出厂鉴定分析。
◆ 通过各种工序的炉前快速分析,以达到炉前过程控制。
◆ 产品规格的鉴定分析。
◆ 材料验收。
◆ 质检。
主要技术参数:
◆激发光源
具有高能预火花能力的400Hz高重复率的火花激发光源。
脉冲幅度:+15KV。
◆真空型光谱室
分析波段范围:170-600nm。
0.75米焦距、帕邢龙格安装、凹面光栅。
局部恒温30℃&plun;0.1℃。
允许个通道(标准配置12个通道)。
◆ 火花激发台
小氩气用量的冲氩式激发工作室。
火花台易于更换。
火花室清洗方便。
◆测量系统
主要是把光谱信号进行检测和记录,并控制各系统正常工作。
测量方式:分段积分,检测结果发送到计算机中。
光电倍增管高压电源稳定度:8小时优于0.5%。
光电倍增管高压程序调节。
数据处理系统。
主要特点
◆仪器人性化设计,标准化、模块化工艺制造,使仪器趋于小型化。
◆仪器的核心部件全部进口,提高了仪器的稳定性和可靠性。
◆仪器采用国外***的激发光源技术,自行设计出高能量、高稳定的激发光源,满足***含量及痕量的分析。
◆仪器采用整体出射狭缝技术,便于选择通道和调整。
◆仪器光电倍增管高压由计算机直接控制,软件调整,提高了通道的利用率。
◆仪器设有自动恒温系统,解决了环境温度变化对光学系统的影响。
◆仪器多国语言的操作软件、灵活的配置,使仪器更具有人性化的理念。
◆仪器可用于多种基体分析:Fe、Co、Ni、Ti,Cu、Al、Pb、Mg、Zn、Sn。
软件功能
◆WINDOWS系统下的多国语言的操作软件。
◆多个控样同时校准一次分析结果。
◆工作曲线多项式及多边形拟合。
◆制作曲线的浓度库管理。
◆基体校正、干扰校正。
◆具有权限管理模块。
◆质量控制规范管理。
◆系统状态检测。
◆数据输出管理。
CX-9800(L)落地式金属分析仪是我公司引进欧洲技术,是目前进的公认的***代CCD光谱仪技术, 广泛应用于冶金、铸造、机械、汽车制造、航空航天、兵器、金属加工等领域的工艺控制,炉前化验,中心实验室成品检验。仪器体积小、稳定性好、检测限低、分析速度快、运行成本低、操作维护方便,是控制产品质量的理想选择。
主要特点:1、可测定包括痕量碳(C),(P),硫(S)元素,适用于多种金属基体,如:铁基,铝基,铜基,镍基,铬基,钛 基,镁基,锌基,锡基和铅基。全谱技术覆盖了全元素分析范围,可根据客户需要选择通道元素;
2、分析速度快捷,20秒内测完所有通道的元素成分。针对不同的分析材料,通过设置预燃时间及标线,使仪器用短的时间达到优的分析效果;
3、光学系统采用非真空恒温光室, 激发时产生的弧焰由透镜直接导入真空光室,实现光路直通,了光路损耗,提高检出限,测定结果准确,重现性及长期稳定性;
4、特殊的光室结构设计,使真空室容积更小,抽真空速度不到普通光谱仪的一半;
5、自动光路校准,光学系统自动进行谱线扫描,确保接收的正确性,免除繁琐的波峰扫描工作。仪器自动识别特定谱线,与原存储线进行对比,确定漂移位置,找出分析线当前的像素位置进行测定;
6、式的电架设计,可以调整的样品夹,便于各种形状和尺寸的样品分析;
7、工作曲线采用标样,预做工作曲线,可根据需要延伸及扩展范围,每条曲线由多达几十块标样激发生成,自动扣除干扰;
8、HEPS固态光源,适应各种不同材料;
9、固态吸附阱,防止油气对光室的污染,提高长期运行稳定性;
10、铜火花台底座,提高散热性及坚固性能;
11、合理的氩气气路设计,使样品激发时氩气冲洗时间缩短,为用户节省氩气,氩气消耗不到普通光谱仪的一半;
12、采用钨材料电,电使用寿命***,并设计了电自吹扫功能,清洁电更加容易;
13、高性能DSP及ARM处理器,具有***速数据采集及控制功能并自动实时监测光室温度、真空度、氩气压力、光源、激发室等模块的运行状况;
14、仪器与计算机之间采用以太网连接,抗干扰性能好,外部计算机升与仪器配置关,使仪器具有更好的适用性;
15核心器件全部***,***了仪器***的品质。产品参数指标:
光学系统 | |
光学结构 | 帕邢-龙格结构的全谱真空型光学系统 |
光室温度 | 自动控制恒温:35℃&plun;0.5℃ |
波长范围 | 160-800nm |
光栅焦距 | 350 mm |
光栅刻线 | 2160 l/mm |
一光谱线色散率 | 1.2 nm/mm |
探测器 | 多块高性能线阵CCD |
平均分辨率 | 10pm/pixel |
激发台 | |
气 体 | 冲氩式 |
氩气流量 | 激发时3-5L/min, 待机时:须待机流量 |
电 | 钨材喷射电技术 |
吹 扫 | 点击自吹扫功能 |
补 偿 | 热变形自补偿设计 |
分析间隙 | 样品台分析间隙:4mm |
激发光源 | |
类 型 | HEPS固态光源 |
频 率 | 100-1000Hz |
放电电流 | 1-80A |
特殊技术 | 放电参数优化设计 |
预 燃 | 高能预燃技术 |
数据采集系统 | |
处理器 | ARM处理器,高速数据同步采集处理 |
接口 | 基于DM9000A的以太数据传输 |
电源与环境要求 | |
输 入 | 220VAC 50Hz |
功 率 | 分析时700W,待机状态40W |
工作温度 | 10-30℃(该温度范围内温度变化不大于5℃/h) |
工作湿度 | 20-80% |
尺寸与重量 | |
主机尺寸 | 800*750*500 mm |
重 量 | 130Kg |